二手 CND PLUS CIE-2C02(04)-C #9223039 待售

CND PLUS CIE-2C02 （04）-C是基於光刻工藝開發的正CIE-2C02 （04）的光刻系統。它提供了優於傳統的正光抗蝕劑的蝕刻和化學電阻特性，允許精確和均勻的結構電路模式與低缺陷率。抗蝕劑基於三種組分的混合物--一種可交聯的聚合物、一種光阻滯劑和一種光活性化合物（PAC）。該混合物與其他光化學和熱穩定化合物結合，形成輻射敏感乳液。當暴露在光線或輻射下，乳液將能量轉換成潛像。阻光劑有助於減少不需要的背景圖像的形成，而PAC增加了抗蝕劑的附著力。交聯聚合物有助於保護抗性免受光催化降解，提高其穩定性。當暴露在光線下，潛像被PAC放大，從而引發抗蝕劑的聚合。放大後的圖像有助於創建高分辨率的圖樣,並具有精確和精確的線寬。在曝光後烘烤（PEB）過程中，在抗蝕劑熔點以下或以上產生的熱量有助於進一步放大潛像，導致更好的分辨率。CND PLUS抗蝕劑具有優異的抗蝕性和蝕刻性能，對堿性和酸性蝕刻化學均具有抗性。它還具有改進的濕蝕刻和薄膜粘附到許多基材，最小的背景傾斜和低缺陷率。抗蝕劑與標準光刻膠加工兼容，包括防反射塗層、曝光後烘烤、顯影後烘烤等。它還提供了比傳統光刻膠更好的保質期和存儲穩定性,從而實現了長期存儲能力。綜上所述，CND PLUS CIE-2C02 （04）-C是一種為光刻工藝提供高分辨率、精確度和均勻性的正光刻系統。該抗蝕劑具有出色的蝕刻、粘附和存儲性能，為以最小的缺陷率制造電路模式提供了可靠的替代方法。