二手 CND PLUS CIE-2C3D02(04)-2 #9144079 待售

CND PLUS CIE-2C3D02 （04）-2是為深度紫外線（DUV）曝光應用而設計的高性能光阻設備。該系統提供卓越的性能和先進的功能，使光刻工藝在關鍵的深層紫外線/光刻應用更容易和更高效。CND PLUS CIE-2C3D02 （04）-2光抗蝕劑單元由對UV輻射具有高反應性的UV敏感光聚合物組成，設計用於超分辨率成像。這臺機器中的兩個組件，一個堿溶性光致抗蝕劑和一個有機溶劑顯影劑，產生一個極其耐用，高分辨率的圖像。該光致抗蝕劑配制成對基材具有良好的附著力，對酸性和堿性清潔過程均具有抗性。顯影劑提供了最優的曝光條件以及曝光輻照和未曝光區域之間的高對比度，使其適合深層紫外線光刻應用。CND PLUS CIE-2C3D02 （04）-2光刻工具還具有多種其他特性，使其成為先進光刻應用的理想選擇，包括高透明度、低剝離率、對酸和堿的異常低靈敏度以及對所有紫外線波長的高靈敏度。它易於混合，直接應用於基板，使成像過程簡單高效。此外，CND PLUS CIE-2C3D02 （04）-2光刻材料具有出色的蝕刻阻力，適用於各種直接成像光刻工藝。CND PLUS CIE-2C3D02 （04）-2光刻膠模型是高分辨率、高可靠性、高質量深層紫外光刻應用的理想選擇。它具有高的可用性、快速的曝光時間和出色的圖像分辨率,使其成為多種DUV光刻應用（從半導體制造到MEMS和微電子）的理想選擇。