二手 CND PLUS CIE-3C02(04)-C #293642075 待售

CND PLUS CIE-3C02 （04）-C是一種光刻膠設備，由光刻膠和顯影劑組成，配制用於制造電子元件。它特別適用於先進的光刻工藝，如直接寫入激光光刻、直接寫入電子光束光刻等精密光刻工藝。光致抗蝕劑系統由聚合物基板和感光活性層組成。這層是由合成產生的紫外線或電子在光學上觸發的。當暴露於適當的輻射下，發生改變聚合物底物分子結構的化學反應。該反應導致聚合物膜發生分子位移，在膜中提供浮雕結構。然後在適當的溶劑溶液中發展浮雕結構。應用於感光層的顯影劑是含有二乙二醇單丁醚、丁基甲醚、丙二醇和表面活性劑的3組分的顯影劑。這樣就可以在整個抗蝕層被可靠移除的情況下進行全面開發。由於顯影劑不溶於水，不溶解任何不需要的殘留物。光敏裝置具有較高的靈敏度，適用於高長寬比特征的設計。它還能抵抗熱沖擊,非常適合需要升高退火溫度的織物。光刻機為光刻工藝提供精確、均勻的圖樣復制和高分辨率特征。抗蝕層賦予基材極好的附著力和化學電阻率，使基材保持化學汙染物的清潔。用CND PLUS CIE-3C02 （04）-C構成的光刻膠層將在廣泛的化學和機械暴露以及熱和輻射暴露中保持穩定。底物中的分子移位還可以實現精確和可重復的模式復制，從而確保制造中使用的相同程序集的一致結果。CND PLUS CIE-3C02 （04）-C的光刻工具經濟性強，是各種電子元件制造作業的理想選擇。它在光刻工藝中的優異性能，加上化學和機械化學電阻率、粘合劑和輻射穩定性，使其成為電子器件制造的理想光刻資產。