二手 CND PLUS CIE-3D02(04)-C #9223036 待售

CND PLUS CIE-3D02 （04）-C是一種由酸性novolak樹脂和光活性化合物兩種組分組成的光敏設備。該系統是用於印刷電路板和其他電子元件制造過程中的安全方便的光刻膠來源。酸性novolak樹脂是CND PLUS CIE-3D02 （04）-C的基材，一種提供結構支撐和粘附的交聯材料。其熱、化學和物理性質使其能夠抵抗制造過程的條件。最重要的是，酸性novolak樹脂穩定了光活性化合物，這是其在光致抗蝕劑單元中的主要功能。光活性化合物，常被稱為感光劑，是光刻過程中的光敏成分。它負責在可見紫外線照射下化學結構的變化，使其在發展時可溶性和可移動。當與酸性novolak樹脂結合使用時，光活性化合物會影響固化光刻膠的物理特性，使其具有柔韌性和耐用性。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C的設計能承受極高品質化學放大光刻膠的惡劣環境，表面起伏最小。適用於低壓、低功率VLSI集成電路的高級集成。此外,它還提供均勻的過度曝光緯度,並可治愈不低於0.042µm的固化膜厚度,最大膜厚度為0.54µm。光刻機有旋轉塗層和預烤保形塗層兩種塗層方式。自旋塗層是將預混合的光活性化合物和酸性novolak樹脂倒入基材上，快速旋轉形成均勻的光敏塗層網絡的技術。預先烘烤的保形塗層方法是將預混合的光致抗蝕劑倒在基板上，然後在爐子中幹燥。在這兩種方法中，高分辨率圖像隨後被投影並通過光源轉移到光刻膠上。之後，光致抗蝕劑經過一種稱為顯影的化學處理，去除了光致抗蝕劑的裸露區域，留下了一個用於進一步制造的蝕刻面膜。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C提供了一種可靠的高質量的光致抗蝕劑來源，並需要使用光源和化學處理。該工具具有多種多樣的特性，能夠承受先進集成的化學和物理特性，適用於現代制造工藝。