二手 CND PLUS CIE-3D02(04)-C #9223038 待售

CND PLUS CIE-3D02 （04）-C是一種高性能光刻設備,專為高技術行業的精密深度蝕刻應用而設計。該系統用於各種制造過程,在這些過程中,準確和可重復的結果至關重要。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C利用暴露技術和基板的獨特組合,提供卓越的蝕刻性能和精確度。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C單元是一種深度蝕刻機，結合了多個元素，為集成電路、晶圓、半導體和其他微制造設備創建精確的底層結構。該工具包括高精度激光曝光頭、自動索引晶片傳輸資產、高性能CASS步進控制以及先進的抗蝕材料和曝光技術。所有組件集成在一起，為一系列高科技產業提供了完整的深度蝕刻解決方案。此模型減少了對多種光阻劑的需求,這些光阻劑成本高昂、耗時,而且對於復雜的深度蝕刻應用程序通常不切實際。設備的另一個好處是可攜帶性。它旨在安裝在移動、模塊化的微型制造環境中,使其易於在各種地點使用。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C支持各種抗蝕劑材料的激光曝光，包括光致抗蝕劑和負性抗蝕劑。該系統旨在提供精確和可重復的曝光結果,分辨率為0.1 μ m。此精度對於微機械加工、集成電路制造和其他高科技應用至關重要。基於激光的曝光頭被設計用來調整曝光時間，以​​得最佳的結果。此外，步進控制設計用於提高分辨率和更高的可重復性，以實現復雜和精細的深度蝕刻所需的自動曝光周期。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C設計為高效、可靠和精確,可在單個過程中實現多個深度蝕刻應用程序。該裝置控制嚴密，非常適合用於多種行業，包括微電子、光電、集成電路制造和晶圓制造。對於這些應用程序,CND PLUS CIE-3D02 （04）-C機器提供了最高的精度和性能。