二手 CND PLUS CIE-4D02(04)-C #9267215 待售

CND PLUS CIE-4D02 （04）-C是由光化學材料和解決方案的領先供應商CND （Coating and Developing Inc.）開發的最先進的光阻設備,用於半導體和其他集成電路的工業生產。CND PLUS光阻系統是專門設計用於直接寫入光刻工藝的，用於高精度創建集成電路和其他微電子元件。該裝置采用了一種專有的硬烤光刻光刻耐光塗層，以及CND先進的四層沈積技術（4D02）來創建具有極高分辨率和特征均勻性的特征。CND 4D02塗層由四個不同的薄膜層組成，這些薄膜層經過專門設計，可與傳統的光刻工藝相互作用。這四層被設計成與投影機中的光刻光學元件相互作用和調制，以給出設計者在成品中所需的精確特征。4D02塗層中的第一層是紫外線阻滯層。該層有助於在平版印刷過程中創建小物體細節所需的均勻性，也可以排除抗蝕劑的過度暴露和底層矽片的汙染。第二層是硬烤UV吸收層，有助於降低焦點深度和可接受打印所需的臨界尺寸（CD）。這一化學層提供了更高的精度和精確度，有助於提高產量。第三層和第四層分別是光致抗蝕層和紫外線增強蝕刻止動層。這些層相互作用，保護下面的矽片免受潛在的過度暴露和化學攻擊。與傳統的光刻工藝相比,它們共同幫助確保高質量的印刷品具有更清晰的特征邊界和更高的分辨率。CND PLUS CIE-4D02 （04）-C光致抗蝕劑工具非常適合用於制造先進半導體和微電子器件的高密度、超細細節和復雜介電層。其硬烤紫外線吸收層有助於提高分辨率，降低實現可接受印刷所需的CD，而其四層塗層則提高了平版印刷的均勻性和景深性能。降低的CD規格允許更高的產量和更復雜的模式,而保護層有助於確保改進的可重復性和更長的模具壽命。