二手 CONVAC 6000 #26871 待售
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CONVAC 6000是為微電子制造業光刻設計的高性能工業光刻設備。該系統由一個照明子系統、一個掩模子系統以及一個抗蝕塗層和顯影頭組成。照明子系統使用兩個F2準分子激光源,分別提供高達550mJ/ cm2的能量、高達400kHZ的頻率和高達3 um的光斑大小,用於正面照明。照明子系統還包括可變間隙激光電池、激光電源和快門。面罩子系統具有自動真空面罩更換器和自動石英面罩曝光器。在明暗場圖樣中,曝光器可實現多種照明角度和曝光時間。抗蝕性塗層頭的設計可在晶片上提供卓越的均勻性。它能夠用厚薄的薄膜和薄膜塗覆多達300 mm的零件，精度和精確度相等。抗蝕性塗層采用螺線管驅動的自動閥，為塗層過程的每個步驟提供精確的流量、壓力和溫度。6000的開發頭具有基於四極子的霧化噴霧器，有利於晶圓各部分的均勻開發時間。霧化器在抗蝕劑表面噴塗溶劑基蝕刻介質，並允許先進的抗蝕劑去除技術，如立體定向蝕刻。總體而言,CONVAC 6000單元是一臺可靠、緊湊的光刻機,非常適合高精度生產,可實現最大吞吐量。其自動化的掩模處理、可變的照明角度和精確的抗沈積性能使其成為微電子設計中持續高生產力的理想選擇。
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