二手 CONVAC CBA-1-1M-2000 #293747947 待售

CONVAC CBA-1-1M-2000光刻設備是一種高精度的曝光和沈積系統，設計用於對較小的精密樣品和組件進行制圖。該單元結合了光刻和真空沈積的特點，以便為用戶提供有效的結果。CBA-1-1M-2000有一個14層蒸發器和6英寸遮罩對準平臺，用於電介質和金屬的沈積。蒸發器允許多達16個同時沈積區進行多層沈積。這種特性允許在較大的區域上對較小和較復雜的成分進行陣列化，並沈積均勻的厚膜。帶照明的遮罩對齊器可確保遮罩與基板的精確對齊,從而能夠以精細的細節和高精度對特征進行沈積和圖案化。這些應用可以使用廣泛的材料，機器可以針對不同的曝光參數進行調整，以達到理想的效果。CONVAC CBA-1-1M-2000還采用了一系列適合更復雜樣品和部件的沈積技術。這些技術的整合，包括自旋塗層、噴塗塗層和槽塗層，可以精確沈積厚度均勻的保形膜。這樣就可以沈積金屬和介電層，以便對各種元件進行可靠的保護。CBA-1-1M-2000旨在最大限度地提高吞吐量並最大程度地減少工具停機時間,它具有用於收集流程數據的自動化資產,以及用於樣品處置的全面跟蹤模型。設備還配備了備份存儲,允許在系統故障或停機時備份流程和數據。這一單元的設計效率高，成本效益高，使其成為廣泛研究和工業應用的寶貴工具。