二手 CONVAC CBA-3–3 M-2000 #9016683 待售

CONVAC CBA-3-3 M-2000是一種光刻設備，用於在半導體和微電子元件上實現精確的光刻圖樣。它用於方便各種圖樣化應用，如采樣、掩蔽、蝕刻和印跡。光致抗蝕劑系統的主要部件是保形泵，它被設計用來使用液體或氣體混合物在工件表面產生高對比度的圖像。泵本身能夠施用各種厚度的光致抗蝕劑，厚度從20到500 nm不等，無論底物形狀如何。泵還能夠實現從5 μ米到1mm寬的均勻覆蓋，適合各種光刻應用。用戶可以修改保形泵的設置參數，以產生不同的光敏圖樣。這是通過調整曝光時間和厚度，以及抗蝕劑的類型來實現的。光致抗蝕劑施用後，對光掩模進行照明，開發出光致抗蝕劑的暴露區域。這導致這些區域中的光致抗蝕劑被去除，露出下面的底物。剩下的光致抗蝕劑可以被移除，換成新創建的材料。此外，CONVAC CBA-3-3 M-2000光阻裝置配備了許多安全功能，如自動關閉和自動報警，以便在操作範圍以外更改參數時向用戶發出警報。它還能夠進行某些實時監控,允許用戶根據需要查看和調整處理參數。這有助於確保應用程序之間的最佳可重復性和一致性。總而言之，CONVAC CBA-3-3 M-2000光刻機為用戶提供了實現復雜光刻模式的可靠、準確的手段。它提供了對光刻膠應用的精確控制，允許用戶根據自己的確切需求定制圖案。最後，增強的安全功能確保用戶隨時了解其操作參數，並可根據需要進行調整。