二手 CONVAC CBA-M-2000-U #9152187 待售
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CONVAC CBA-M-2000-U是為各種基板加工而設計的多功能光刻設備。它能夠在包括玻璃和聚酰亞胺在內的各種晶圓基板上進行光刻、化學蝕刻和濺射處理。該系統是一種光學光刻工具，利用投影曝光光學器件，利用含有圖樣的遮罩或光掩模將輻射投射到基板上，以便對晶圓的特定區域進行光刻蝕刻。該單元利用線性聚焦投影透鏡將光子聚焦到基板上，在指定區域上創建圖樣。鏡頭的可調數值光圈（NA）為0.43，設計用於對尺寸範圍廣泛的基板進行成像，從5.7mm到500 mm。鏡頭可以調整以適應不同的曝光波長，包括可見光和紫外線光源。鏡頭也可以配置為同時使用4英寸或6英寸晶片。對於晶片的圖案化,機器的軟件使用戶能夠設計光掩模,指定光刻和蝕刻過程的目標區域,以及設置曝光能量和劑量。該工具具有高端精密對準資產，對準精度為0.5微米，適合高公差應用。晶片的傾斜和旋轉也可以手動微調，以確保光學器件的最佳性能。模型的曝光階段提供了一致的準確性和可重復性，並允許晶圓相對於其原始參考點的精確定位。該設備提供內置的化學蝕刻能力，允許各種濺射和光刻技術。系統包含高達10 kW的選擇性濺射功率，濺射時間可調整至基板尺寸和所需結果。此外,該單元允許使用保護膜（如抗蝕材料）對基板進行層壓。總體而言，CBA-M-2000-U是一種高度先進的光刻機，可廣泛應用。其耐用和堅固的特性,加上簡單的設置,使其成為想要利用高精度光刻技術的用戶的理想選擇。
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