二手 CONVAC CEA-M-2000 #293747949 待售
網址複製成功!
CONVAC CEA-M-2000光刻膠設備是一種設計用於制造和加工光刻膠的高性能、多功能、多層光化學生產系統。光致抗蝕劑用於制造半導體和光電器件及集成電路,CEA-M-2000專門設計用於深紫外和極紫外後端應用的一步光刻和蝕刻工藝。它具有緊湊的模塊化結構,具有水平輸送機構和大容量基板處理能力。CONVAC CEA-M-2000能夠用多晶矽、二氧化矽和多晶金剛石等不同材料生產和加工光阻。它的模塊化設計提供了廣泛的曝光選項,包括投影、接觸或接近打印以及數字曝光。該單元還提供了增強的均勻性和分辨率,由於其豐富的特征光刻膠開發,後處理,和控制系統。此外,該機還能夠采用獨特的直流伺服掃描平臺進行掩模與晶片對準。此外,該工具還提供了多種功能,可用於降低成本和優化流程。它為蝕刻提供了智能平面化資產,使用戶能夠優化蝕刻參數,以實現所需的蝕刻輪廓。此外,它還采用了最先進的幹蝕刻技術,使用戶能夠降低成本,減少蝕刻時間。該模型還提供了晶圓均勻掃描設備,可以測量每個晶圓上的精確蝕刻量和暴露面積。CEA-M-2000光敏系統是為滿足現代半導體和光電工業的要求而設計的。憑借其高性能元件和自動光刻膠處理,它為設備制造帶來了用戶前所未有的光刻和蝕刻能力。這個單元幫助用戶降低光刻膠生產成本和時間,提高產量和提高吞吐量。這臺機器非常可靠,非常堅固,能夠承受惡劣的工作條件和高溫。
還沒有評論