二手 COST EFFECTIVE EQUIPMENT / CEE 200 #293590405 待售

成本效益設備/CEE 200光刻設備是電子工業中使用的計算機控制蝕刻系統。它的工作原理是將反應性金屬化層施加到基板上，然後引導激光束對其進行制圖。然後對激光束進行檢測和分析，以確定蝕刻模式，然後將其用於進一步處理。CEE 200是一個高度精確和高效的單元,它提供各種蝕刻過程,從大規模的光掩模生產到半導體器件的原型設計。機器使用專用的光阻應用工具和受控環境,以確保準確構建所需的模式。它使用計算機控制的激光器在基板上繪制圖樣，然後允許精密蝕刻。具有成本效益的設備200資產具有廣泛的處理參數,非常可靠,適合各種應用。200可以容納多種基材，並以一系列紫外線激光光源將基材暴露。它還包括一個等離子體塗抹器，用於在基板上施加光致抗蝕劑層。等離子體被固定在受控環境中，而激光則被用來在基板上繪制圖樣，從而確保任何所需圖樣的精確創建。具有成本效益的設備/CEE 200是一個高效率的模型,分辨率高達5 μ m/像素。這提供了精確的蝕刻結果。它還提供了一些功能,通過提供預防性維護功能、提醒用戶註意潛在問題以及包括在線監控設備,幫助改進流程。設計了CEE 200光致抗蝕劑系統,考慮了安全性.它包括一系列保障措施，以確保傷害風險降至最低。它有一個保護激光和使用者的金屬外殼，以及一個裝有任何危險氣體的煙罩。它還包括用於控制激光和光刻過程所用功率量的軟件，使用戶可以調整激光功率，以確保危害的風險最小。具有成本效益的設備200單元是各種應用程序的絕佳蝕刻工具,它提供了創建精確模式的高效、安全的方法。它以經濟實惠的價格提供出色的功能,使其成為任何蝕刻或原型設計項目的絕佳選擇。