二手 Dantakuma DT-1600 #9290797 待售

Dantakuma DT-1600是一種光致抗蝕劑設備，主要用於精確制圖，特別是用於生產半導體和光掩模。它是一個模塊化的系統，由不同的組件如曝光單元、抗蝕劑塗層機和顯影工具組成。曝光資產使用汞蒸氣弧燈將光刻層暴露於光中。該模型以1到10 Hz的頻率和0.2到0.3 MW/cm2的光強度比曝光光刻膠。曝光設備有一個可調聚焦透鏡和一個模式生成軟件來定義模式的確切形狀。抗蝕劑塗層系統用於在半導體晶片上施加光致抗蝕劑層。該單元可應用多種光刻膠薄膜，如幹膜光刻膠、光刻膠、SU-8或光刻膠。它包括兩個部分：一個抗蝕劑溶解罐和一個自旋塗層.溶解罐中含有一溶液的光致抗蝕劑，然後轉移到自旋塗層。自旋塗層使晶片旋轉，從而使光致抗蝕劑在其表面均勻分布。開發機用於去除裸露的光刻膠層。該工具使用蝕刻化學物質和顯影劑溶液的混合物，從晶圓中選擇性溶解暴露的光致抗蝕劑層。顯影劑溶液可能含有溶劑、表面活性劑、堿、螯合劑和鹽緩沖劑。DT-1600是一種強大的光刻資產，可以在各種基板上進行精確的圖樣繪制。它可以用來創建半導體晶圓、光掩模和其他技術所必需的復雜模式。它的模塊化性質為用戶提供了選擇最適合其需求和預算的組件的靈活性。