二手 DELTA 7EK #9395519 待售

DELTA 7EK是一種光刻系統，設計用於光刻工業。光致抗蝕劑是紫外線或X射線敏感的照相材料，用於在半導體晶片上創建有圖樣的微結構。7EK由兩種成分組成：感光層（如感光丙烯酸、環氧或聚酰亞胺）和顯影劑/底物蝕刻劑。感光層被沈積在基板上，然後暴露於能量來源，如紫外線或X射線。能量源在感光層中引起化學反應，使其在顯影劑/底物蝕刻劑中更易溶解。此蝕刻劑可用於在基板表面上形成特征。這些特征通常是通過光掩模進行圖樣化的，但也可以直接通過將基板暴露在能源中來開發。為了最大限度地提高其效率,DELTA 7EK光刻系統包括幾個特征：1.一種多層堆棧體系結構,允許在基板上獲得更精細的特征大小,從而實現更高效的陣列設計。2.一種在基板上的抗反射塗層，以最大化光刻膠層中的紫外線或X射線能量吸收。3.一種優化的顯影劑/基板蝕刻成分，以更好地抵抗模式的發展。4.一種「軟烘烤」工藝，有助於確保均勻的光刻膠層厚度和增強的性能。5.一種「抗腐蝕」處理，以盡量減少殘留的光致抗蝕劑在基板表面的有害沈積。7EK被設計為提供優越的圖樣效果，具有出色的分辨率，出色的表面平面性和優越的邊緣清晰度。此外,它是一個非常可靠、經濟高效的解決方案,用於制造復雜的陣列結構。總之，DELTA 7EK光刻系統是一種可靠、經濟高效的光刻解決方案，具有優異的圖樣效果，具有優異的分辨率、優異的表面平面度和優越的邊緣清晰度。它通過其多層堆棧和防反射塗層、優化的顯影劑/基板蝕刻成分以及「軟烘烤」和「防腐」工藝，實現了更精細的特征尺寸和更高的性能。