二手 DMC SA/3m #143322 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 143322
晶圓大小: 8"
優質的: 2006
Wafer-level Electro Plating system, 8"
Used for Stamper and micro pattern electro-plating
Can be implement as high uniformity
Using cathode head rotating system can produce high-quality products
This equipment can be applied to MEMS type and performed on the trench fill electroplating
Process automation can be set with Independent program for each cell
Various plating condition can be set with Independent program for each cell
DC, pulse, pulse- reverse current can be supplied in the resolution ±1 mA
Ni, Ni-CO, Cu Electroplating can be performed with this equipment
Total solution volume: 500 liters
Features:
Small Footprint
Independent Pump/Filtration for each cell
Patented adjustable cathode head and workholder for precise control of thickness variation
Front access for maintenance
Integrated all-in-one design, integrated sump & electronics
Enclosed work area for process control
Industrial PC control with large flat panel touch-screen display
Switch mode rectifiers
Easy operator interface
All digital Control system
(Qty 3) Cells:
Pump: 1 HP
Heater: 6 kW
Rectifier: Standard 65 Amps, 24VDC
Filtration: 2 Stage
Pre-filter: 5 micron DOE, 20"
Final-filter: 0.45 micron DOE, 20"
Flow: 50 liter max (Adjustable)
2006 vintage.
DMC SA/3m是一種最先進的光阻設備,專為精確曝光而設計。該系統是專門為滿足先進微電路制造工藝的要求而設計的。其特點包括高精度的圖像掩模對準、精確的手動定位、強大的X射線源以及高分辨率的成像能力。DMC SA/3m通過使用其三軸電動光纖掩模對準單元來產生堅固、一致的圖像。這臺機器使它能夠精確對齊成像位置，並準確定位對準導軌框架到掩碼。它的高功率光源還能夠提供多角度的高強度光，確保單個表面的照明一致。DMC SA/3m的定位非常精確。它能夠準確地放置和測量每次曝光時掩模的確切位置，無論掩模的大小如何。它的X射線源可以調整以提供多通道曝光以創建更復雜的圖像。它的超高分辨率成像工具還能夠捕獲到5.2納米分辨率以下的信息。DMC SA/3m除了具有圖像再現能力外，還能夠進行塗層和開發工藝集成。其整體塗層資產旨在確保整個基板的圖像分辨率一致。它的開發過程集成使得能夠在大面積上進行高靈敏度成像。該模型還可以與蝕刻、沈積和光刻等其他基材技術結合使用。總體而言,DMC SA/3m是一種用於要求苛刻的微電路制造應用的先進光刻設備。它提供精確的圖像定位、多軸電動掩模對準以及強大的X射線源。其成像能力高分辨率，該系統可與其他基板技術結合使用。因此,DMC SA/3m對於那些在成像和制造過程中需要精確和精確的用戶來說是一個理想的解決方案。
還沒有評論