二手 DNS / DAINIPPON 200W #293797341 待售
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ID: 293797341
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
Coater / Developer system, 8"
Spin Coater (SC):
Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW)
PEEK Spin chuck
Resist nozzle scan speed: 25-85 mm/s
Pot rinse dispense flow: Maximum 30 mL/min
Edge cleaner nozzle
Back rinse dispense flow: 50 mL/min
Cup material: PP, PPS
SUS304 Exhaust material
Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense
Spin Coater (SC) / T-ARC:
Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW)
PEEK Spin chuck
T-ARC Nozzle scan speed: 25-85 mm/s
Pot rinse dispense flow: Maximum 30 mL/min
Edge cleaner nozzle
Back rinse dispense flow: 50 mL/min
Cup material: PP, PPS
SUS304 Exhaust material
Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense
Spin developer:
Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW)
PEEK Spin chuck
Nozzle scan speed: 25-100 mm/s
Nozzle cleaning dispense flow: Maximum 1 L/min
Pure water rinse dipense flow: Maximum 2 L/min
Back rinse dispense output: 4 Line
Cup material: PP,
SUS304 Exhaust material
Drain: Liquid-vapor separation
Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense
UV Wafer Edge Exposure unit (EE):
Vacuum sensor
Image sensor detector
Source: 200 W, HG - Xe lamp
Illumination limit control: Feedback auto-control
Indexer:
Built-in SMIF
ASYST INX 2200 Indexer
Wafer detector
Cassette defector
POD Detector
1999 vintage.
DNS/DAINIPPON 200W是DNS Screen Manufacturing Co.它是一種光刻系統，能夠產生高分辨率和復雜的圖樣。該單元包括精確切割和模版功能的獨特組合,並提供卓越的設備精度和易用性。DNS 200W光刻機基於兩個基本系統.第一種工具是光致抗蝕劑資產，它能夠在基板上產生小的高分辨率圖案。該模型采用反應性離子蝕刻（RIE）和光刻工藝的組合，將光刻膠薄膜沈積在基材上。光致抗蝕劑的薄膜被選擇性地暴露在紫外線下，進而觸發光化學反應。這導致在基板上沈積一個光刻膠圖樣，然後可以選擇性地轉移到所需的形式。第二個設備是DAINIPPON 200W激光燒蝕系統，它可以在基板表面產生精確的切割和圖案。該單元的工作原理是將激光束引導到基板上所需的區域。當激光束接觸基板時，會引起材料的汽化和蒸發，從而產生精確的切割或圖樣。此過程非常精確且可重復,可用於生成復雜的特征陣列。這兩種系統在200W機器中結合在一起，產生微型化的底物。光致抗蝕劑工具用於制備基板上的光致抗蝕劑薄膜，然後將其暴露在激光束下，產生符合要求的圖樣。通過對光敏膠片和激光束的精確控制，實現了一種高精度、可重復的圖樣。這些過程的結合導致了高精度和易於使用的微型圖案設備組件的生產。DNS/DAINIPPON 200W光刻膠資產廣泛用於薄膜晶體管陣列、集成電路、太陽能電池和傳感器等應用。該型號具有出色的設備精度和可重復性,非常適合各種應用。此外，設備也操作方便，性價比高，對很多企業來說都是有吸引力的選擇。
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