二手 DNS / DAINIPPON 629 #9276179 待售
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ID: 9276179
晶圓大小: 6"
Developer system, 6"
Loader / Unloader, 6"
Step motor driving system
Individual unit control
I/H Unit, 6"
Wafer handling arm material: SUS304
Wafer moving method: Arm with vacuum
Digital wafer sensor
Step motor driving system
Developer spin unit, 6"
Develop type: Rotation spray with spin motor
Chemical liquid discharge method: N2 Pressurization
Wafer chuck size, 70 mm
Spin cup
Polypropylene resin:
Upper: 8"
Lower
Nozzle type: Spray nozzle
Exhaust control system: Manometer
Spin cover: Transparent acrylic
Maximum spin motor: 6000 RPM
Waste liquid drain: Natural drain
Wafer moving: Step motor
Utilities:
Power supply:
AC, 110 V, 30 A, 1 Phase
AC, 220 V, 30 A, 1 Phase
Air pressure: 4 ~ 5 Kg/Cm²
N2 Pressure: 3 ~ 4Kg/Cm
Vacuum pressure: 60~70 CmHg
Spin exhaust: 100 mm (20 mmHg).
DNS/DAINIPPON 629光刻設備是一種獨特的光刻系統，設計用於制造和基於電子的基板加工。該設備能夠產生高分辨率的特性，具有出色的工藝精度和可重復性。該機廣泛應用於許多行業，包括制造各種電子元件。DNS 629光刻工具由幾個組件組成。它有一個反射型遮罩對準器，配有兩個光學通道，允許在廣域內曝光。資產還包括自動蒙版處理模型，能夠在曝光前自動交換蒙版和調整蒙版位置。系統內還集成了能源管理設備，允許用戶精確管理曝光時間。這種光致抗蝕劑裝置旨在支持正向和負向光致抗蝕劑，為用戶提供取得預期成果的能力。該機器包括分辨率高達0.25 µm和步進器，使用戶能夠以可控且均勻的曝光光強度曝光多達4 x 4英寸的基板。步進器還提供可調節的焦點控制，使用戶能夠將基板聚焦在工具中。DAINIPPON 629資產包括一個開發者/剝離器單元，使開發者能夠將光刻膠圖案發展成所需的特征，並在需要時蝕刻基板。其他幾個單元，如光電二極管單元和光束對準，也被整合到模型中，使得設備高度自動化和高效。此外，該系統設計方便用戶，具有直觀的編程界面，有助於方便設備編程，並為用戶提供機器參數的數字監控。它還有一個先進的熱控制工具，為精確的應用提供先進的溫度控制。總體而言,629資產提供了高性能、準確性和可重復性,以及廣泛的功能。適用於多種基於光刻膠的應用，使其成為有興趣提高產品質量和最大限度降低生產成本的用戶的理想選擇。
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