二手 DNS / DAINIPPON 80B #9400647 待售

製造商
DNS / DAINIPPON
模型
80B
ID: 9400647
(2) Coater / (2) Developer system Type: Open cassette, 8" THC Chemical cabinet ETU Coater: (6) PR Nozzles unit per spin (IWAKI Bellow pump) EBR RRC Nozzle Cup rinse Back rinse Developer: DEV1 / (2) Nozzles Pre-wet nozzle DI Rinse 1/2 Back rinse HP CP LPAH / AH.
DNS/DAINIPPON 80B是一種用於半導體器件制造的光刻設備,專為器件的高質量抗蝕性陣列設計。它是一個精密的系統,能夠精確控制特定基板上的光刻膠層的暴露和發展。DNS 80B Photoresist Unit利用脈沖激光源、一套精確的掩蔽和開發技術以及基板加熱應用來產生最佳效果。這臺機器能夠設計直徑不超過6英寸的基板,其精確分辨率可低至10微米。該工具還提供獨特的功能,支持光刻膠層在基板上的精確對準,以及光刻膠的受控曝光,而不會對基板造成傷害。要開始這一過程,必須先清洗和處理基材,然後再使用光刻膠。制備基材後,進行掩蔽階段,以形成所需的圖樣。DAINIPPON 80B的激光源將精確的光能施加到選定的基板上,加熱和固化光刻膠層,並在光刻膠內創建詳細的圖樣水平。一旦激光源被觸發和調整,光刻就開始了。暴露在光源下的基板區域會變硬,而用光掩模隱藏的區域會保持柔軟。一旦光致抗蝕劑被開發出來,軟硬的光致抗蝕劑區域就會被暴露出來,從而可以在底物的不同部分被蝕刻掉。資產中的加熱應用程序充當開發後的過程。它可以提高蝕刻光刻膠的精確度,並保護基材。它還有助於在設備準備進入下一個制造步驟之前完全清除所有不需要的光刻膠區域。80B是半導體器件制造的一種強大而精確的工具。其激光光源、精確掩蔽和基板加熱能力使其成為光刻圖樣制作過程中實現高精度的理想模型。它是先進電子器件發展的重要組成部分,是半導體器件制造的重要技術。
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