二手 DNS / DAINIPPON SC-W60A-AVQ #9235500 待售

DNS/DAINIPPON SC-W60A-AVQ是一種光刻設備，用於為各種半導體器件生產高精度掩模。該系統配備了兩個使用幹涉曝光技術在各種基板上實現均勻、高精度光刻圖樣的光刻膠曝光頭。該單元的基本操作涉及使用光掩碼，其中包含要轉移到基板上的圖樣。光掩模放置在兩個光刻膠曝光頭上。每個頭由四個弧光燈和四個共用階段的冷凝器透鏡組成。采用三維光學掃描儀，確保光掩模的均勻曝光。掩模以精確角度暴露在光線下,以確保傳輸圖像的準確性。面罩放置在安裝在高精度電動舞臺上的「樣品舞臺」上,該舞臺沿x、y和z方向移動,以使光面罩與基板對齊。安裝了空氣軸承的激光對準裝置和自動對準機進一步保證了精確對準，從而能夠準確地記錄光掩模。該工具是為高精度和靈活性而設計的。這是通過其用戶友好界面實現的，該界面允許用戶快速設置和操作資產。例如，用戶可以修改每個弧燈的光照強度和每個頭部的曝光時間。曝光頭可以自動化，允許用戶調整每一波長光的曝光時間，以補償光掩模的變化，從而準確地記錄每一個圖樣。該型號還配備了圖像處理軟件，允許用戶調整光掩模的對比度和亮度，以及去除光掩模或基板上可能存在的任何塵埃顆粒。這樣可以確保高精度的模式傳輸。最後，DNS SC-W60A-AVQ包含一對精密的離子束濺射和氣相沈積系統。這允許薄膜材料在基板上的圖樣上沈積。這些材料，與光刻膠圖案結合，形成高可靠性和高效率的半導體器件。總之，DAINIPPON SC-W60A-AVQ是為生產各種半導體器件的高精度掩模而設計的先進光刻設備。它配備了兩個精密曝光頭、激光對準裝置和圖像處理軟件，為用戶提供生產高質量口罩所需的靈活性和準確性。此外，其先進的濺射和氣相沈積系統使用戶能夠在基板上的圖樣上精確地沈積薄膜，從而充分利用光刻膠系統。