二手 DNS / DAINIPPON SKW-629 #9181757 待售

DNS / DAINIPPON SKW-629
製造商
DNS / DAINIPPON
模型
SKW-629
ID: 9181757
晶圓大小: 6"
Coaters / Developers, 6".
DNS/DAINIPPON SKW-629是一種用於半導體加工的負音、正作用光刻設備。它是一種先進的化學放大光刻膠,與各種光學曝光工具兼容。DNS SKW-629的設計旨在優化先進光刻工藝控制要求的產量和性能。它提供卓越的分辨率、出色的邊緣依賴性和高對比度。光致抗蝕劑在廣泛的曝光環境中提供出色的抗蝕性性能。它的低劑量靈敏度有助於減少工藝時間,簡化晶圓圖樣。DAINIPPON SKW-629抗蝕劑具有優於其他弓形抗蝕劑系統的幹蝕性,在等離子體蝕刻應用中確保了很強的均勻蝕刻效果。它還具有碳隔離層,提高了蝕刻速率精度,產生更好的均勻性。該系統還具有在長時間暴露於多個紫外線(UV)燈後提高的薄膜穩定性。該設備設計為具有改進的成像特性,並提供出色的照片排便特性。它能夠創建從亞微米到單層到高級多層設計的各種功能。抗蝕劑還提供了出色的輪廓控制,允許設計更均勻的特征,並縮短曝光時間以減少工藝時間。該機與多種元件兼容,包括SEMI Standard清潔產品、蝕刻劑、開發者和氣相沈積材料。抗蝕劑非常適合用於3D結構,因為它可以使用最小的積水進行陣列設計,從而使最終產品變得簡單易用。最後,SKW-629抗蝕劑可用於最流行的濕法加工化學品,確保整個過程的兼容性和質量。總體而言,DNS/DAINIPPON SKW-629光刻膠工具旨在在各種半導體制造應用中提供高質量、可重復的結果。它提供卓越的分辨率、快速的曝光時間和改進的蝕刻阻力。抗蝕劑提供出色的輪廓控制,允許為更統一的最終產品創建多種功能。此外,該資產與廣大行業標準零部件和清潔產品兼容。其全面的特點使其成為現代芯片制造中先進光刻的理想選擇。
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