二手EBARA(光阻劑)待售
EBARA是一家信譽卓著的制造商,提供一系列廣泛應用於半導體制造工藝的光刻設備。這些系統因其卓越的性能和可靠性而廣受歡迎。EBARA提供各種具有獨特功能和優勢的類似物,滿足不同的客戶需求。UFP 200A是它們值得註意的光致抗蝕劑裝置之一。該系統旨在為各種基材提供具有出色粘合性能的高分辨率陣列功能。它具有優異的抗蝕性和較高的對比度,適用於先進的光刻工藝。另一個系統是UFP 300A,它提供卓越的分辨率和成像能力。它顯示出最小的線緣粗糙度和高模式保真度,從而提高了設備性能。UFP 300A對化學和等離子體蝕刻工藝具有很高的抵抗力,適合苛刻的制造環境。EBARA還提供CADS HVM(大體積制造)光刻膠系統。該系統專為高通量生產環境而開發,可提高生產效率,同時保持卓越的光刻性能。CADS HVM以出色的塗層均勻性、抗敏感性和線寬控制而著稱。總體而言,EBARA的光刻機(包括UFP 200A、UFP 300A和CADS HVM)為半導體制造過程提供了先進的解決方案。這些工具具有獨特的優勢,例如高分辨率、出色的附著力、低線緣粗糙度以及與高通量生產環境的兼容性。
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發現的結果
過濾器
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過濾器
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