二手 EDWARDS XE-200 #9070677 待售

EDWARDS XE-200是一種光刻設備，設計用於生產高精度圖樣和表面特征。系統使用光有選擇地改變暴露的曲面。裸露的表面是被塗上光刻膠的表面。光致抗蝕劑系統用於各種應用，但XE-200特別適合於需要近距離公差控制的精確線型。EDWARDS XE-200由先進的光學器件組成，包括高分辨率顯微鏡和掃描透鏡單元，以及用於照明的LED線性陣列。顯微鏡的放大倍率範圍為20倍至60倍，而掃描透鏡的視野為1.2毫米。兩種鏡片組合後可達到的總景深為0.2毫米。LED陣列提供視野的統一覆蓋,並提供四個預編程曝光範圍。除了光學之外,XE-200還具有高級軟件控制功能。集成的用戶界面使配置和調整曝光參數變得容易。再者，它使X-Y階段的精確位置控制得以實現，讓用戶快速準確地移動平臺。軟件還允許定制曝光模式的配置文件，這使得機器只需單擊幾下鼠標即可重現相同的模式。最後，EDWARDS XE-200采用先進的掩蔽技術來精確控制暴露表面的形狀和大小。這是通過使用專門的蒙版來抑制光刻膠的某些區域並暴露其他區域來實現的。該工具還具有多種尺寸的掩碼,使其能夠創建更復雜的模式。這種掩蔽技術在嘗試創建具有非常接近公差的特征時特別有用。總體而言,XE-200是一種高性能的光刻膠資產,旨在在表面上產生復雜、高精度的圖案。憑借其先進的光學、軟件和掩蔽技術，該模型能夠創造出前所未有的分辨率和準確性的線條模式。無論是工業應用還是科學應用,EDWARDS XE-200都能提供最佳的光敏生產精度.