二手 EIKO IB-3 #293793575 待售

EIKO IB-3是為雙層和三層光掩模設計的下一代光阻設備,它利用專用的先進技術來確保高度精確的對準和高靈敏度的曝光性能。該系統能夠使用1微米精度和0.55nm分辨率的高分辨率掃描頭生產單層、雙層和三層光掩碼。它還配備了高速掩模處理器，用於快速測量線寬、均勻性、接觸孔等光掩模參數。此外，它的薄膜蝕刻模塊允許高精度去除陽性抗蝕劑進行曝光和蝕刻。在精度方面，IB-3可以可靠地產生小至0.2-0.3微米的線寬，集成的實時曝光穩定性為± 100nm/5s。它產生高精度線條的能力通過使用能控制光束形狀同時減少曝光時間的光束面板而進一步增強。該裝置的自動對準機允許以0.1微米的精度進行高度精確的對準測量，而其高靈敏度的光阻能可靠地產生多層復雜的布局。最後,EIKO IB-3非常可靠,具有「零」缺陷率,並且具有獨立功能,使其成為要求苛刻的光刻工藝的理想選擇。其強大但易於使用的圖形用戶界面支持光刻工藝的所有階段，其集成的可追蹤性功能確保了數據的準確性。此外,其先進的維護服務設計可方便維護和維修,確保其在大批量生產環境中的可靠性能。