二手 ETS / LINDGREN ETN-1100-110 #9078435 待售

ETS/LINDGREN ETN-1100-110光刻設備是一種高精度、最先進的光刻系統，設計用於多級面罩制作和微電子封裝應用。該單元能夠在每個特征的分辨率高達10,000納米的光刻層上曝光圖樣。它使用傳統的405納米激光二極管作為光源，以及一些精確的光學元件，從而能夠可靠和一致的模式生成。ETS ETN-1100-110機器具有兩個掩碼,可用於將光掩碼傳輸到基板上。該工具的高精度設計包含了計算機控制的精密掃描資產,允許包括索引、現場掃描和陣列放置在內的各種曝光參數。該模型允許用戶選擇直徑從10到10,000納米的任意範圍的場和特征大小。該設備還具有強大的光學元件定制和對準功能,有助於確保口罩制作過程的準確性和精確度。LINDGREN ETN-1100-110可以編程為復雜的模式復制,從而實現廣泛的應用,包括印刷電路板、布線圖和復雜的集成電路。除了這些功能外,ETN-1100-110還包括自動透明對齊（TA）功能,旨在確保在為多級掩碼創建精美圖案時對齊的準確性和可重復性。TA系統包括在曝光前精確定位光掩模的對準級和電動級。為了確保設備的最佳運行,ETS/LINDGREN ETN-1100-110包括復雜的過程控制功能和診斷,以及最新的環境和安全保護功能。機器包括一個互鎖工具，設計用來防止人員在操作過程中進入工具。此外，ETS ETN-1100-110還包括一些額外的安全功能，包括不開門政策、安全眼鏡、防護服和安全警報。綜上所述，LINDGREN ETN-1100-110是一種用於高精度掩模制作和微電子封裝的堅固可靠的光阻資產。它是一種完美的工具,可在分辨率高達10,000納米的光刻膠層上設計各種圖案,並具有強大的光學元件定制和對齊功能以及自動化的TA功能。該模型還包括多項安全特性和精密的過程控制功能，使其能夠安全有效地使用。