二手 EVG / EV GROUP 101 #293590409 待售

EVG/EV GROUP 101光刻設備是一種模塊化、先進的光刻系統，用於生產半導體和其他微電子元件。該單元結合了光學近似校正（OPC）與先進的設計能力，以生產具有優越圖像質量的精確圖案薄膜。該機器利用各種光刻曝光和曝光後處理步驟來創建和開發膠片圖樣。模塊化設計允許根據特定項目的需要定制工具。核心組件包括光學模塊、曝光模塊、資產控制模塊和軟件。光學模塊由精密投影鏡頭、曝光縫隙和真空柱組成。此模塊用於將圖樣投影到曝光介質上。曝光模塊使用高強度汞弧燈提供曝光能量。接觸劑量控制器和傳輸有助於將接觸物傳遞到介質。模型控制模塊是操作的大腦，控制所有被曝光的薄膜。它還具有用於公開特定材料類型的預先配置的選項。各種軟件應用程序可用於模式設計、模擬和優化,以及曝光後處理。光刻設備還允許多層的自動曝光，允許其用於生產復雜的微電子元件。模塊化設計，以其高質量的光學，使系統能夠產生極好的水平的亞微米分辨率和臨界幾何形狀，具有良好的均勻性和尖銳的地形。該設備的設計非常方便用戶使用,可實現低生產成本、高產量和適應苛刻技術的靈活性。它是光刻工藝生產多種微電子元件的關鍵部分。EVG 101的Photoresist Machine憑借其高精度、靈活性和用戶友好的界面，是任何微電子元件制造商的絕佳選擇。