二手 EVG / EV GROUP 101 #293590418 待售

EVG/EV GROUP 101光致抗蝕劑設備是一種最先進的化學處理系統，用於在基板上對金屬膜進行圖案化和蝕刻。該裝置利用先進的光學、電子束和化學技術相結合，在廣泛的金屬薄膜和基板上產生具有高分辨率能力的圖樣。EVG 101光刻機設計為在基板上沈積金屬膜時達到高精度。各種金屬可以以不同的厚度沈積，刀具有能力根據每種單獨基板的特性來調整蝕刻性質。例如，對於單個基板，可以根據不同厚度的金屬沈積來調整光刻膠資產的光學特性，從而形成特定大小的圖樣。EV GROUP 101模型利用高級流程進行高分辨率陣列。光刻設備的電子束光刻（EBL）技術采用微調電子束，可以在基板上繪制不同形狀和大小的圖樣。然後，系統使用光敏材料來構造金屬膜，以便創建所需的圖樣。光致抗蝕劑材料首先應用在基板上的薄層中，然後根據所需圖樣的要求進行不同劑量的曝光。一旦曝光，發達的光刻膠材料充當掩模，EBL單元可以用來將所需圖案的形狀傳遞到基板上。這種暴露和發展的過程最終在所需的基板上形成一個具有預定形狀的圖樣。101機也提供了有效的蝕刻方法。在基板上陣列所需的圖樣後,刀具使用蝕刻工藝來物理去除薄膜中不需要的部分。蝕刻過程是由光致抗蝕劑材料和金屬膜之間的化學力、底物內電阻率的差異或底物中各種離子的存在所驅動的。這些化學力相互作用，去除了薄膜中沒有被光刻膠材料覆蓋的部分，以創造最終的模式。EVG/EV GROUP 101光致抗蝕劑資產是在各種金屬薄膜和基板中產生高度精確和復雜圖樣的有效工具。先進的光學、電子束和化學技術的結合，使得通用的模型適合於半導體、微電子以及相關行業的許多應用。