二手 EVG / EV GROUP 101 #293657969 待售
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單擊可縮放
ID: 293657969
晶圓大小: 4"-6"
Spray coater, 4"-6"
Semi automatic with manual loading
Suitable for wafer sizes, 3"-8" (With proper chuck)
Coat module
Manual loading and mechanical pre-aligner (Pneumatically actuated)
Password protected access levels
PTFE Coat chamber for spin coating
Programmable rotational speed for substrate
Programmable arm for resist dispense and topside EBR
Cybor pump
(2) Solvents for external chemical cabinet
Previously used chemistry: 1813, 1827, Acetone and IPA
Hotplate
Resist processing module:
All electronics
Pneumatics
Tubing for solvents
Drain or dump container
Exhaust lines
Syringe dispense option
Operations manual and documentation.
EVG/EV GROUP 101是一種設計用於半導體工業的光阻設備。該系統的設計使材料薄膜能夠精確蝕刻到晶圓上。蝕刻是使用光刻屏蔽工藝完成的。這一過程的工作原理是將晶片暴露在光照模式下。光源使光敏塗層在光線暴露的區域變硬，而在其他區域則保持柔軟。然後可以很容易地蝕刻掉這種柔軟的材料,以便在晶圓上創建圖樣。EVG 101光致抗蝕劑單元包括多個組件。機器從一個光源開始，該光源用於在晶圓上投射光的圖案。該光源可以是激光、高強度發光二極管（LED）陣列或任何其他能夠提供精確光模式的設備。然後使用光掩碼有選擇地阻擋光線到達晶圓的某些區域。這將創建蝕刻圖案。該過程的下一步是在晶片上應用光致抗蝕劑。這種光致抗蝕劑是一種材料薄膜，它將覆蓋晶圓並保護其免受蝕刻過程的影響。它在暴露於光線模式的區域變硬，而在被面罩阻擋的區域則保持柔軟或可蝕刻。根據要蝕刻的材料類型,可以使用不同的光刻膠。EV GROUP 101光致抗蝕劑工具還包括一個用於光致抗蝕劑的反應站。該站旨在為光刻膠提供受控環境。它由真空室、溫度控制資產和紫外線光源組成，以激活光刻膠。該模型還帶有一個激光站，用於創建光掩模。這個激光站的工作原理是將一個光的圖樣投射到一個面罩上，然後蝕刻掉暴露在光線下的區域。光掩碼可以多次使用，在其他晶片上創建相同的圖樣。101光刻設備的最後一個部件是蝕刻站。這是執行蝕刻過程的地方。蝕刻過程采用真空室和化學處理相結合的方法完成。EVG/EV GROUP 101光阻系統對於在半導體工業中使用的晶片上創建精確的圖樣至關重要。該單元可實現精確的模式控制和優異的效果。該機也易於使用，甚至可以由經驗不足的人員操作。由於這些原因，EVG 101光刻工具繼續成為許多半導體制造商的熱門選擇。
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