二手 EVG / EV GROUP 101 #293749961 待售

EVG/EV GROUP 101是為滿足現代光刻的需要而開發的一種用途廣泛且精密的光刻設備。它基於電子束、反應性離子蝕刻（又稱E-Beam）的原理，將非常薄的光刻膠層精確地沈積在各種底物上。該系統旨在為一系列應用程序和要求提供可靠和一致的蝕刻功能。EVG 101單元由槍、顯微鏡和電子束發生器組成。電子束是由安裝在機器頂部並包含電子槍電源和真空室的槍產生的。在真空室內部，電子被操縱並聚焦到掩模上，掩模保持著光刻膠圖樣。顯微鏡可以對電子束進行精確的對準和掃描。光致抗蝕劑在暴露於顯影劑和交聯劑化學物質之前，先通過電子束施加在基板上（通常是晶片）。這兩個過程分別稱為光沈積和光降解，形成成品的光致抗蝕劑，然後將其應用於晶片。在E-Beam過程中，以弧形運動操縱和移動槍。這種弧狀運動被稱為渦旋運動（Vortex Motion），它允許光束在掃描基板時既快速又準確，允許精確和幹凈的蝕刻結果。光束通過計算機軟件持續控制，整個過程都受到仔細監控。光敏沈積過程允許高分辨率、多層的光敏層沈積。它還能夠結合各種抗蝕層，使制造出非常薄的（微尺度）圖案。此外，該工具能夠直接蝕刻和包覆孔和各種其他結構，以及為功能性金屬化提供高分辨率模式。EV GROUP 101資產是先進光刻工藝的可靠、經濟實惠的平臺。其高分辨率的能力、耐用的構造和高度可控的電子束，使其成為一種可靠、用途廣泛的光刻膠模型，可滿足各種先進的生產需求。