二手 EVG / EV GROUP 101 #293751585 待售

EVG/EV GROUP 101是先進光刻設備的領先供應商EVGroup制造的光刻設備。該系統設計用於生產高分辨率、高性能的微電子器件，這些器件是由III/V材料制成的，如砷化氙（GaAs）或矽氙（SiGe）。EVG 101單元包括深紫外線（DUV）光掩模對準器、紫外線步進器、阻擋帶工具和熱烤箱。這些組件共同提供了基板的精確對準和曝光、卓越的光刻性能、快速的工藝能力以及獲得專利的低溫抗蝕條。深紫外光掩碼對準器的設計目的是在很大的角度和間距範圍內快速準確地將抗蝕劑覆蓋的晶片定位到定制的光掩碼圖樣上。UV步進器允許使用DUV輻射對精細的詳細結構進行精確和可重復的晶圓打印。抗蝕帶工具用於顯影後光刻層的開發和去除，而熱烤箱在不損壞底層材料的情況下提供合適的熱退火，這是制造高性能微電子器件光刻過程中的關鍵步驟。使用DUV, EV GROUP 101機器能夠產生高分辨率的圖樣,其特征尺寸可降至0.2微米（0.00008英寸）,具有很高的覆蓋精度和穩定性。該工具還支持多種曝光模式，以實現優化的生產力和產量，同時在一個周期內執行多個對齊和曝光步驟。除了傳統的光刻之外，101資產還與化學輔助離子束蝕刻（CAIBE）、低能離子束蝕刻（LEIBE）等先進技術兼容；兩者都被用來精確地成形和跟蹤圖樣成圖樣的晶體，具有更高的精度和分辨率。EVG/EV GROUP 101型號是業界領先的微電子器件制造應用解決方案,提供高精度和高性能光刻技術,用於生產復雜、精密的VLSI和MEMS器件。它經過優化,以滿足最嚴格的晶圓廠環境要求,並提供卓越的準確性、靈活性和性能。