二手 EVG / EV GROUP 101 #9229818 待售

製造商
EVG / EV GROUP
模型
101
ID: 9229818
晶圓大小: 6"
Spray coater, 6" Can be configured for 8" Coat module Cleaning module Base frame for one resist processing module: Electronics Pneumatics Tubing for solvents Exhaust lines Semi-automatic manual loading and mechanical pre-aligner PC Controlled with Graphical User Interface (GUI) Password protected access levels Programmable rotational speed for substrate Syringe dispense for spray nozzle option Spinner chucks for 1"-3" and 4"-6" wafers (4) Floor mounting brackets Vacuum wand for wafer handling Exhaust controller Manual included.
EVG/EV GROUP 101光刻設備是一種用於光掩模和光刻生產行業的高精度光刻系統。它設計用於在薄片上進行精確、均勻和可重復的光刻膠操作,為微加工和半導體器件制造提供了理想的工具。EVG 101是由多軸分割軸構造提供動力的精密成像單元。機器由一個毯子部分、基板處理部分和光學成像部分組成。毛毯部分包括毛毯清潔塗層室、多軸基板級、分束器和圖案對準工具。基材加工段包括預塗室、預塗單體儲層、裝載室、軟烘烤站、曝光站、後烘烤站和開發站。光學成像部分由雙激光光源、光學擴散器和標線組成。EV GROUP 101光阻資產具有投影光刻、光學投影步進器、準分子激光光刻等高精度成像操作能力。該模型具有高度自動化的成像過程,包括預塗層、圖樣對齊、曝光、烘烤後、開發和多路徑成像模式。在成像過程中,可以使用先進的檢測算法來分析基板上圖樣的均勻性和準確性。這款設備還可以專註於分辨率極好的非常小的特性。此外,該系統還設計用於加工模具尺寸可達350毫米的基板。101是為嚴格生產要求而設計的堅固可靠的單元。它與各種光致抗蝕劑材料兼容,為各種應用提供了最佳的基板加工工藝。該機還可以與化學機械平面化、噴塗塗層、分子自組裝等先進技術相結合。EVG/EV GROUP 101光刻工具為用戶提供卓越的性能和靈活性。它能夠為各種應用高效、精確地生產精密的光掩模和薄片,使其成為高精度光刻操作的理想選擇。
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