二手 EVG / EV GROUP 101 #9283636 待售

EVG/EV GROUP 101是一種用於先進光刻的光刻設備，能夠在半導體材料上直接制造復雜的圖樣。該系統促進半導體特性的精確成型，從而能夠開發性能更好和規模更小的電子產品。EVG 101單元是一種先進的光刻技術，能夠實現陡峭的瀝青消融，並且在將微圖樣蝕刻成半導體材料時避免任何側壁殘留物。利用電子束與光學曝光和光刻相結合，實現了最優分辨率和結構。EV GROUP 101所使用的e-beam允許高分辨率水平的劑量和圖樣的精細控制。此外，它還具有塑造軟件命令定義的二維（2D）模式的能力。該機還利用光學器件對光刻工藝進行聚焦，確保圖樣正確成型。通過將電子束和光學曝光結合用於光刻，101產生了具有卓越尺寸精度和精確度的圖案。此外，工具的集成子分辨率輔助特征（SRAF）可以提高圖樣的分辨率，消除錐角。此外,EVG/EV GROUP 101為高長寬比陣列提供了一個有效的解決方案,允許形成低至1：1長寬比的高長寬比特征。該資產還為較小的特征結構提供了鍍銅功能。先進的EVG 101光刻膠模型可用於制造多種產品，從精密的微電子到生物醫學設備。它是一種在半導體工業中高精度生產復雜圖樣的高效、經濟高效的解決方案。總體而言，EV GROUP 101光刻設備是一種強大的工具，能夠產生精確度和分辨率更高的復雜特性。這種先進的系統能夠對小特性進行高精度的圖樣繪制和蝕刻,從而能夠制造性能更高和更小的電子產品。