二手 EVG / EV GROUP 105 #9245282 待售

EVG/EV GROUP 105是用於半導體掩模制作、晶圓級封裝和其他先進光刻應用的光刻設備。該系統旨在提供高精度和精密的光刻處理,同時保護細膩的模具不受強能量的影響。其先進的功能包括用於強大成像性能的自動對焦單元、用於減少晶圓運動以提高精度和吞吐量的專利無觸摸卡盤技術,以及用於改善覆蓋和精度的集成三維掩模對準掃描儀。EVG 105機可配置用於多種光刻過程，包括紫外線（UV）曝光、光刻、蝕刻和沈積。它利用KrF （248nm）和ArF （193nm）源等高功率紫外線激光器,以及先進的光學器件來提高工藝精度。該工具包括高分辨率、低缺陷光學器件,以最大限度地提高照片圖像分辨率。為了提高圖像清晰度,資產配備了復雜的圖像分辨率驗證工具,如點-擴展-功能分析。該模型的先進、高度靈敏的模級對齊模式識別算法也能最大限度地減少錯誤的對齊，並在具有挑戰性的模式識別形式中實現改進的結果。設備進一步配備了尖端軟件和先進的自動化能力，允許快速處理，提高吞吐量和高產率。EV GROUP 105具有集成的、高度可配置的晶片處理系統,可快速、精確地加載和卸載晶片,以及安全的存儲解決方案。它還包括一個通用晶圓運輸手推車，以減少開銷成本，並確保晶圓往返設備的安全運輸。該機配備了幾種安全功能，包括主動式空氣冷卻工具、鹵素燈、主動式氣體冷卻資產和緊急停止模型（Cassavant）。所有這些功能都是為了確保設備以及在運行的樣品和人員的正常操作和最大的安全。總之，105光致抗蝕劑系統是半導體掩模制作、晶圓級封裝等先進光刻應用的強大、高質量、準確的解決方案。它提供了一系列強大的功能,包括高級光學、自動對焦和集成模式識別算法,以提高性能。此外，一系列的安全功能提供了精密光刻操作所需要的安心。