二手 EVG / EV GROUP 120 #293830309 待售

EVG/EV GROUP 120是一種來自EVG的光阻設備，常用於納米級器件的晶圓級處理。非常適合先進的晶圓級封裝、3D-integration、MEMS/MOEMS、微流體、光掩模處理等相關應用。EVG 120具有自上而下的12英寸晶圓曝光系統，場大小為180 mm x 300 mm。它可以加工直徑達200毫米的石英鉻面膜。該單元控制投影光學器件、放大倍率和成像方向的位置，提供最佳的靈活性和準確性。投影光學器件的傳輸速率大於85%,因此能夠解析低對比度特征尺寸為0.3微米的結構。該機器還能夠生產高通量和經濟高效的設備制造，因為它能夠抵抗與在高功率環境下的暴露相關的熱應力，並且排氣非常低。因此,所提供的成像分辨率和吞吐量時間比同類系統大得多,因此非常適合大批量生產。此外,該工具還具有多種內置功能,使其具有高度可靠和用戶友好的特點。除了復雜的控制系統外，EV GROUP 120還具有高度敏感的傳感器，以確保精確的對準和晶圓重復率。資產還使用模型級掩碼對齊層,可確保x和y方向的圖像一致,從而消除無法糾正的曝光錯誤。該設備的設計目的是使石英掩模的最小二向色比保持在8，從而確保對甚至亞微米結構的清晰成像。除此之外，該系統還具有清潔室友好型操作和無CDA操作。這基本上消除了有害化學品再循環的需要。120是目前來自EV GROUP的最可靠、最先進的光阻系統之一,為晶圓級應用提供了最大的分辨率、準確性、吞吐量和成本效益。