二手 EVG / EV GROUP 301 #293606591 待售

EVG/EV GROUP 301是光刻光刻的理想設備，是納米和微電子制造業光掩模和轉移工藝的先進技術。它設計用於微電子表面上圖樣和曝光過程的精確對準。這種光刻膠系統可實現高分辨率、全自動光刻，極窄的特征尺寸高達6 µm，這在業界是前所未有的。它也非常可靠,能夠使用高真空和出色的特征分辨率功能。EVG 301光刻裝置配備了多種特性，使其能夠處理多種尺寸可達200毫米的晶圓。它有一個用於曝光晶片的大功率紫外線光源和一個用於將晶片投影到晶片上的圖樣投影儀。機器還能控制曝光劑量、位置、焦點和變焦。此外，它采用了若幹傳感器和反饋系統，確保晶片定位和曝光過程的高精度和精確度。該工具還配備了劑量定時和定位以及計量和模式的綜合控制。這樣就可以完全控制和調節整個光刻過程，從對齊和曝光到印刷。此外,資產還包括一個自動清潔循環,該循環定期清潔光掩模和晶圓表面,從而確保可重復和準確的結果。EV GROUP 301光刻膠型號極為用戶友好，為用戶提供了多項好處。它能夠產生極高分辨率的圖像，其特征大小小至6 µm，設計用於短波和中波紫外線和真空室環境。它還提供準確的登記數據，可用於控制模式和接觸過程，不需要人工幹預，並確保一致的高質量結果。