二手 EVG / EV GROUP 301 #293648317 待售
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EVG/EV GROUP 301光阻設備是一種抗蝕劑處理系統,旨在確保先進半導體器件的高質量、經濟高效的制造。該單元設計為與各種光刻膠配方兼容，為用戶提供了滿足其特定應用要求的靈活性和多功能性。機器的核心部件是抵抗裝置和曝光裝置。抗蝕劑裝置配有專有的單密封塗層平臺和氣動配氣閥，以及一個後加工滅火站。此組合確保了可重復、可靠的工藝,並最大程度地減少了薄膜厚度的變化。分配量、應用速度和壓力可以變化和調整以達到最佳處理效果。曝光單元包括高性能、可變波長、短脈沖激光曝光工具。這種暴露資產能夠以高時間分辨率和高空間分辨率控制暴露點的大小和暴露強度。它還具有一個具有較大光學窗面積的曝光板和一個可調節的光學針腳，以便在整個視場上增加曝光均勻性。EVG 301 Photoresist Model有多種集成的多工序和外圍元件，包括激光成像、切片和光刻工藝。該設備將用於自動邊緣檢測和閉環控制過程的邊緣計時器與易於使用的軟件集成在一起，具有可變的照明設置，以實現精確、可重復和可靠的曝光。EV GROUP 301光抗蝕劑系統設計並實現了一系列安全特性，以確保安全高效的工作環境。這些功能包括硬件和軟件控制的組合,以及各種互鎖、隔離電路和內置在單元中的安全性。該機還設計為最大限度地減少背板效果，這會導致與高分辨率光掩模的對準和配準問題。301 Photoresist Tool還可以與各種專門的外圍設備和組件集成，如自動粒子檢測、液浸系統和自旋塗層設備。綜上所述,EVG/EV GROUP 301 Photoresist Asset是一個可靠且高度可定制的平臺,用於實現從原型設計到大批量生產的各種應用程序的經濟高效且精確的抗蝕刻解決方案。其集成的安全功能為用戶的應用提供了安全的工作環境。它的多過程和外圍組件為用戶提供了靈活性、精確度和可重復性。
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