二手 EVG / EV GROUP 301 #9071454 待售

EVG/EV GROUP 301是一種高品質的光刻膠設備，設計成精確的圖案薄膜結構。光阻系統被用於半導體器件結構、微機電系統（MEMS）、微光電系統（MOEMS）等一系列應用中。EVG 301設計用於塗層、曝光、開發等多種處理步驟。該系統具有兩個對準系統，以確保光刻膠的精確定位。第一個單元是5軸自動對齊器，具有可調的場大小和舞臺速度。這臺機器提供了廣泛的對齊功能，包括模式匹配、全模具識別和過程控制。第二個工具是精密顯微鏡對準，提供精確的定位調整和分辨率高達10毫米。該資產配備了高性能曝光模型，用於常規和離軸照明的高容量成像。它提供兩種可互換的照明模式，用於紡紗和批量曝光的閃光模式，以及用於旅行和專業曝光的轉換模式。設備還提供靜態和動態曝光過程控制，允許用戶輕松調整曝光，以符合每個應用的確切要求。該系統具有高分辨率的掩模模式識別單元，旨在自動檢測和糾正掩模不對齊和不正確的曝光。這保證了每一層的光刻膠都被精確地曝光和圖案化。該機還配備了高精度自旋顯影劑，旨在確保光刻膠的均勻自旋塗層。該工具可以通過附加附件進行擴展，包括高級向量生成軟件、3D自動聚焦資產和微點X-Y階段。總體而言，EV GROUP 301是一款用途廣泛、可靠的光刻膠型號，適用於廣泛的應用。該設備提供精確對準、高性能曝光系統和掩模模式識別,確保每個應用程序均具有高質量和精確曝光的光刻膠。該系統還為用戶提供了額外的配件，以增加便利和靈活性。