二手 EVG / EV GROUP 301 #9284544 待售

EVG/EV GROUP 301光刻設備是一種先進的全自動光刻系統,旨在在各種基板上創建橫向圖案。該單元用於各個行業，如微電子、MEMS、半導體制造等。這臺機器的主要部件包括步進/掃描儀、真空卡盤、晶圓處理和開發站。步進/掃描儀控制從標線到晶片的模式傳輸。此步進/掃描儀具有較大的視場,可實現最大的模式精度和吞吐量。真空卡盤確保晶片牢固地固定在刀具上，以實現高精度的光刻。晶圓處理模塊由一個集成的曝光室、盒式裝載機和預對準器組成，以及一個用於保持恒溫的多鼻換熱器。開發站用於開發光刻膠。它包含一個顯影罐、沖洗罐和兩個不同光刻劑的化學分配系統。顯影劑模塊還包含一個紫外線模塊，用於在顯影之前固化和檢查光刻膠。資產還具有靈活的模塊化設計,允許用戶根據其精確的應用程序要求自定義模型。EVG 301光阻設備還配備了最先進的光學設備,可實現高分辨率成像。這個系統可以精確再現特征小至0.5 µm的圖案。該單元也非常快速和準確，吞吐量高達1000晶圓/小時。這臺機器使用簡單,可靠性很高.它采用直觀的用戶界面設計，便於使用。此外,該工具還有出色的售後支持和客戶服務支持。該資產還附帶了一個高級軟件包，允許用戶開發自己的工藝配方，並最大限度地提高其光刻效果。總之，EV GROUP 301光刻劑模型是一種高度可靠和用戶友好的設備，旨在幫助用戶實現高度精確的光刻結果。該系統具有先進的光學設備、快速的吞吐量和強大的開發支持,允許用戶根據其獨特的應用程序要求自定義設備。