二手 EVG / EV GROUP 301 #9358755 待售

EVG/EV GROUP 301是一種光敏處理設備，用於多種應用。它能夠對準和打印光掩模和晶片的掩模,以及執行基板沈積、幹式和濕式蝕刻過程、開發過程以及許多其他模式復制過程。該系統非常適合研發項目。EVG 301配備了先進的圖樣裝置，便於精確對準和精確打印光掩模，並配有快速加載機制，以減少基板和掩模的閑置時間。機器的晶片對準過程通過其單獨控制的壓電元件實現自動化，進一步縮短了制圖時間，提高了精度。該工具采用模塊化平臺設計,便於定制,以滿足各種應用程序的需求。基板持有臺一次最多可容納30個基板，資產最高可達到200 °C的溫度。該模型還具有符合人體工程學的升降機設備，便於基板的進入和移除。該系統還提供了高級掩碼制作過程。它配備了200納米掃描場光學單元，以及用於調節基板和掩模之間接觸點受力的曝光控制。該機還能夠塗覆面膜-拋光和精加工的能力，這有助於減少塗層時間和最小化排便。綜上所述，EV GROUP 301是一款用途廣泛、可靠的光刻膠加工工具，具有縮短基板和掩模加工時間的特點。它非常適合先進的圖樣和成像技術的研發。