二手 EVG / EV GROUP 8002 #9384858 待售

EVG/EV GROUP 8002是一種適合於各種應用的光敏設備。該系統具有光刻平臺,非常適合中小型應用,並具有集成的6軸機器人,專為微電子單元制造過程而設計。該機器還能夠將其組件與5微米的精度對齊，使其成為一種用於各種過程的有用工具。EVG 8002的光刻由兩個主要組成部分組成：激光幹涉管（LIF）和寬帶采購對準（BBSA）。LIF用於以1微米的分辨率精確測量位置公差。此方面非常適合確保在對齊和重新定位操作期間精確放置元件。另一方面，BBSA是光刻步驟中使用的主要輻射源。它可以發射波長在300至1400納米之間的光，並提供必要的能量，使感光部分暴露於所需的輻射水平。在設備方面，EV GROUP 8002附有一系列為滿足您的特定應用而設計的套件。這包括晶圓傳輸模塊、基板支架和掩模板支架。此外,該工具還提供了適合您應用的各種光學器件,包括各種透鏡、反射器和冷凝器,以及可選的附件（如中性密度濾鏡）。8002的核心是自動化的6軸機器人，它可以精確、可重復地定位掩模板和晶片。該機器人還可以自動跟蹤遮罩板和晶片的運動，跟蹤相對於基板支架的位置公差和曝光時間，從而實現更高的放置精度和最小漂移。還可以回收以前的曝光設置,以便在以後的生產批次中使用,以確保過程隨時間的推移保持一致。性能方面，EVG/EV GROUP 8002最小步長為0.1微米，可重復性為5微米，無論溫度波動如何。這種精確度可以提供卓越的精確度和可重復性,使其成為嚴格公差應用的絕佳解決方案。該資產的運行周期為15秒,最大吞吐量為每小時10個零件,非常適合中小型生產需求。綜上所述，EVG 8002是一種強大的光刻模型，能夠精確對準和曝光分辨率為5微米的零件。集成的6軸機器人使得精確跟蹤掩模板和晶片的運動成為可能，而廣泛的光學選擇提供了自定義兼容性。這種功能的組合為EVG提供了一系列應用程序所必需的靈活性,使其成為大多數制造過程的絕佳工具。