二手 FISA CC20/40 #9395454 待售

FISA CC20/40是一種鈷基光致抗蝕劑設備，專門用於光刻和幹膜工藝。這種光刻膠系統與市面上的其他光刻膠相比，允許了非常高的分辨率和改進的分辨率特性。光致抗蝕劑單元的高分辨率是其獨特特性的結果。FISA CC20/40光刻機的核心是鈷基輻射敏感化合物，設計為對270至460納米之間的光波敏感。這個波長範圍被發現允許更精確，高分辨率的光刻過程。鈷基化合物還可以改善光穩定性和比其他光刻膠系統更快的開發時間。光致抗蝕劑工具也是由液體顯影劑配制而成，液體顯影劑包含了專門設計用於改善資源開發和性能的酸和絡合劑的組合。這種顯影劑的設計更容易從基板上去除暴露的光刻膠，產生更高分辨率的圖樣。開發商還幫助減少環境和健康危害，因為它是無毒和水基的。光刻膠資產還采用低溫固化工藝設計，這樣就可以生產出更堅固的薄膜，而不需要某些光刻膠所需的昂貴蝕刻和圖樣轉移步驟。低溫固化還具有降低光刻膠模型對熱沖擊敏感性的額外優點，並能實現非常精確的圖樣轉移到基板中。最後，對光刻設備進行了優化的回流曲線設計，這是光刻工藝成功的一個重要特點。回流曲線是根據具體應用量身定制的，有助於確保一致的線緣和圖案保真度。通過將其鈷基輻射敏感化合物的獨特特性、優化的液體顯影劑、低溫固化工藝以及精煉的回流曲線相結合，FISA CC20/40光刻膠系統與市場上其他光刻膠系統相比提供了優越的分辨率、更大的光穩定性、更低的成本以及環境和健康效益。這使得FISA CC20/40光致抗蝕劑單元成為光刻和幹燥膜工藝的絕佳選擇。