二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Excalibur #293642294 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Excalibur Photoresist設備是一種高性能的自動化光刻解決方案,旨在解決利用光刻技術制造100納米以下材料的難題。它旨在提供精確、高吞吐量和低成本的處理,並適應各種復雜的應用,包括WLCSP、光子WaveGuide、SiGN光伏電池陣列和MEMS工藝。FSI Excalibur Photoresist system是基於FSI開發的一種專有光刻技術，具有針對錯綜復雜的圖案的專利微調光阻單元。TEL Excalibur機建立在模塊化平臺上，旨在實現高精度、可靠性和可重復性。該工具采用高功率光源（HPLS）,使資產能夠以高達25-100 nm的精度將光聚焦在基板上,從而獲得更快、更準確的結果。光源具有多波長能力，允許用戶在不同波長波段之間切換，以達到最佳模式。該模型還采用了先進的CCD攝像機，能夠檢測和分析快速移動的目標，能夠高精度跟蹤粒子和球。這樣就可以以每小時200晶圓的有效吞吐量實現高達20納米的分辨率和精度。TOKYO ELECTRON EXCALIBUR Photoresist設備利用了一個高效的清潔站，該清潔站專門設計用於清除晶圓中不需要的顆粒和汙染物。這種清潔工藝對於確保光刻工藝和最終所需產品的成功至關重要。該系統專為多功能應用而設計，其模塊化架構允許升級和增強。它配備了一系列復雜的軟件工具和功能,如配置文件優化工具、自動預後優化、對齊功能、叠加和殘留保真度分析工具,以及有助於優化性能的缺陷檢測算法。Excalibur Photoresist單元被用於高精度光刻和先進的微結構，包括導電聚合物、玻璃、III-V化合物和陶瓷等多種材料。它也可以用於無掩模光刻，在基板水平上實現通用操作。這臺機器以其高精度和可重復性而聞名，能夠處理各種各樣的基材和生產量。