二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON HELIOS 52 #187971 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON HELIOS 52是一種光刻工藝控制設備，設計用於半導體晶圓光刻。該系統能夠精確測量抗蝕膜的反射率和其他抗蝕性特性，以確保抗蝕性圖樣能夠在微加工過程的進一步階段準確再現。它是一個自動化單元，能夠實時監測晶圓反射率和其他抵抗特性，實現跨流程的可重復性和精確度。該機由一臺10 X顯微鏡組成，配有聚焦步進機構、Galvo Stage和感官晶圓。顯微鏡用於測量抗蝕膜的光學反射率，使該工具能夠識別和補償任何不規則性。Galvo Stage允許在晶圓上測量多個點，提供一種無偏差的方法來尋找模式的最佳中心。感覺晶片覆蓋有防反射塗層，確保結果盡可能精確。資產包含一個數據采集模型，設計用於存儲、分析和報告過程中收集的數據。這使設備能夠將每個流程的結果與預定值進行比較,並根據需要調整流程以進一步優化。該系統還允許過程調整的自動化，允許單元快速調整以適應各種過程條件。此外,計算機允許遠程訪問,允許遠程診斷和故障排除。此外,FSI HELIOS 52工具還具有高級軟件界面。此接口允許輕松設置和控制光刻過程,從而簡化了原本可能是復雜的任務。軟件還包括一個圖形用戶界面，使用戶能夠以視覺方式查看過程和結果。這使得用戶更容易快速準確地監控進度和發現任何問題。總體而言，TEL HELIOS 52光阻資產是一種先進的工藝控制模型，能夠快速、準確地測量抗性特性。其先進的軟件界面為光刻工藝提供了方便的設置和控制，確保了結果的精確和可重復。利用其數據采集和遠程訪問功能,可以快速、準確地進行調整和監控流程的進度。