二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON K131 #9244159 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K131 Photoresist Equipment是由FSI International, Inc.和TEL Limited（TOKYO ELECTRON）創建的緊湊、易於使用的半導體樣品處理系統。該單元旨在為半導體行業的數以千計的小型MEMS、GaAs和半導體制造商提供專業水平的濕蝕刻能力。這臺機器包括一臺集成式輸送機，用於在晶片上應用光刻膠溶液，用於精確深度蝕刻的集成精密運動控制，以及用於去除光刻膠殘留物的集成清潔能力。它還提供卓越的吞吐量和卓越的均勻性，這是半導體制造的一個重要特點。FSI K131 Photoresist Tool使用行業標準的PCB處理技術,如旋轉塗層、光刻、光刻剝離和浸塗,以便在晶片上產生所需的蝕刻結果。它使用傳統的基於墨盒的輸送資產向晶片分配預定數量的光刻膠溶液。使用自旋塗層，光刻膠可以在精確的設置下應用，以達到最大的均勻性。然後使用光刻技術在晶片上繪制光刻膠圖樣，使其能夠蝕刻成所需的設計。利用集成的精密運動控制模型，TEL K131光刻設備能夠實現晶片上精確的蝕刻深度。這種先進的蝕刻控制技術確保了蝕刻復雜特征時的最高精度、可靠性和可重復性。該系統還具有高級清潔功能，具有高壓和低壓噴霧器，確保除去光刻膠中的所有殘留物。TOKYO ELECTRON K131 Photoresist Unit以小巧、低成本的包裝提供高性能和優異的產量。它直觀的操作和易於使用的界面使其成為中小型半導體制造商的理想選擇,這些制造商需要以經濟實惠的價格提供專業級別的濕蝕刻功能。該機器具有出色的吞吐量,每分鐘可產生三個晶圓,可重復、均勻的結果。K131光致抗蝕劑工具是任何小型半導體制造商尋求提高樣品工藝質量和生產率的必不可少的工具。