二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9090432 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON MERCURY MP光致抗蝕劑設備是一種高速物理氣相沈積（PVD）系統，用於半導體晶片或其他材料表面的光致抗蝕劑層沈積在集成電路的製造中。該單元包括一個Mercuryｮ MP PVD處理器和一個基於微處理器的控制器，它允許光刻膠的快速和精確的沈積。該機設有特殊的高速霧化工藝和特殊的氣體霧化噴嘴，可產生極細的光敏材料噴霧。噴嘴能夠控制霧化顆粒的大小，並提供一致的粒徑分布。此外，該工具的調諧時間快，沈積均勻性提高，非常適合大批量生產。FSI Mercury MP Photoresist Asset還通過允許不同工藝應用的多種配方，允許調整參數，根據具體需要優化沈積層，提供靈活性和增強工藝控制。該模型能夠生產高質量的光敏薄層，能夠以不同厚度沈積材料，均勻性良好。該設備可實現高達1微米/秒的快速沈積速率，這比傳統的抗蝕劑工藝快得多。TEL Mercury MP Photoresist系統可以與蝕刻、清潔等其他工藝集成，允許在大批量生產中快速高效地生產半導體器件。該裝置有一個集成真空機器，能夠提供高真空條件，這是最佳的光敏沈積所必需的。該工具還包括一個特殊的噴嘴，其設計確保了整個沈積過程中的最佳粒徑和均勻性。此外，它還提供了一種自動過程控制資產，可以根據客戶的要求進行定制。此外，TOKYO ELECTRON MERCURY MP Photoresist Model被設計為高度可靠，並提供長壽命周期。此設備非常適合批處理和串聯處理。它還為各種應用提供了卓越的電阻率,包括圖像反轉和圖像增強。此外，該系統易於使用，可用於濺射、噴霧熱解和化學氣相沈積等多種系統。總之，MercuryMP光致抗蝕劑是半導體器件制造的絕佳選擇，因為它具有快速的沈積速率和改進的工藝控制。