二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9102507 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

ID: 9102507
晶圓大小: 6"
優質的: 1992
Spray processor, 6" Upgradeable to 8" Process: Preclean Chemicals: H2SO4, H2O2, NH4OH, HCl, HF, DI-H2O, N2 Software Rev.: 11.000 220V, 20A, 1 phase, 50/60Hz 1992 vintage.
FSI MERCURY MP是半導體制造商在集成電路生產中使用的領先光刻設備。光致抗蝕劑是一種應用於半導體基板的不透明物質,用作防止或減少離子和其他粒子進入基板的保護性塗層。當一束紫外線施加到光刻膠上時,在光刻膠所含的分子中發生化學變化,使其不穩定,容易從底物中去除。這一過程被稱為光刻,用於集成電路的生產。光刻是半導體制造過程中的一個步驟,在此過程中電路的圖樣被轉移到半導體基板上。這一過程通常涉及應用光敏溶液,然後暴露於紫外線輻射。MERCURY MP是一種高效的光刻系統,用於光刻工藝。該單元包括一個功能強大的電光模塊,提供高紫外線功率和高紫外線暴露區域,長壽命超過10000小時。其先進的步進控制模塊還提供了高精度和快速的響應時間。FSI MERCURY MP光刻機產生高精度、特征區較大的圖樣,為高品質IC的生產提供了高熱穩定性的提高的捕集和解困能力。MERCURY MP還包括特殊的光刻膠制劑,以提高成像和蝕刻工藝的產率。此外,其先進的步進控制模塊允許精確對準和定位的光刻膠。總體而言,FSI MERCURY MP是一種高效的光致抗蝕劑工具,可提供更高的熱穩定性、精確的圖樣和更好的工藝產量。其先進的電光模塊有助於確保最高質量的IC。其步進控制模塊提高了光刻工藝的精確度,而其光刻膠配方有助於改善成像和蝕刻工藝。所有這些特性使得MERCURY MP成為半導體制造商理想的光刻資產。
還沒有評論