二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9122700 待售

FSI MERCURY MP是一種高度先進的光刻設備,旨在提供光刻工藝方面的優異效果。專為微機電系統（MEMS）和微電路應用量身定制。通過高效的薄膜塗層和曝光工藝，液膜和幹膜光刻膠的理想特性的共生組合使系統能夠為微電子系統和微電路應用提供最先進的產品性能。MERCURY MP光致抗蝕劑單元采用獨特的液體抗蝕劑和幹性抗蝕劑組合，提供卓越的分辨率、附著力和耐蝕刻性。將液體抗蝕劑塗在基材上，然後用紫外線幹燥。這提供了一個與典型的液體光刻膠相比，具有良好的特征定義和明顯較低的底切的統一、清晰的圖樣。抗蝕劑圖樣通過暴露在紫外線下轉移到底層。曝光過程激活了一種高效的光化學，它燒蝕了未受保護的表面積，並提供了一個銳利、清晰的線條模式。然後將幹性抗蝕劑塗在裸露的液體抗蝕劑層上。它提供額外的蝕刻阻力，允許更好的尺寸控制。幹性抗蝕劑還具有額外的層附著力，有助於抗蝕劑堆棧的整體附著力。FSI MERCURY MP利用液膜和幹膜光刻膠的組合,為客戶提供了一種既可提高分辨率又可提高耐蝕刻性能的解決方案。MERCURY MP機具有高效的薄膜塗層和曝光過程，為MEMS和微電路應用量身定制。它利用獲得專利的高度連貫的產品和技術來確保低汙染和無圖像失真的最佳結果。高效的曝光過程允許充分利用基板膨脹受控的表面積，從而改善線寬和臨界尺寸控制。曝光過程針對一系列材料進行了優化，包括矽、矽膠和其他材料。FSI MERCURY MP工具提供了多種標準光刻膠格式,使客戶能夠根據其應用需求獲得最佳性能。從大面積的應用到詳細的設備制造，資產被設計為提供性能和可靠性。MERCURY MP具有簡單的用戶界面和可靠的工藝流程,是MEMS和微電路生產的理想型號選擇,提供了質量、可靠性和成本效益。