二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #190491 待售

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ID: 190491
晶圓大小: 8"
Semi-Auto Batch Spray System, 8" Specifications: Maxiumum wafer size: 200mm (25 wafer carrier) Maximum motor speed: 1000 RPM Canister volume: 14.5 liters Mercury Process Console Mercury Turntable Mercury Touchscreen Chemistry setup: a) Ammonium Hydroxide b) Hydrogen Peroxide c) Sulfuric Acid d) Hydrofluoric Acid (HF) Operations and Maintenance Manuals (full set) Power: 115VAC, 15 Amps, 1PH, 60Hz.
FSI Mercury OC是半導體工業中使用的一種光致抗蝕劑系統,用於在矽晶片上沈積薄膜,並用矽和其他材料制造復雜的結構。該系統使用基於汞的光源(OC)在光刻過程中對光刻層進行曝光,以產生所需的圖案和結構,並采用先進的光學器件和軟件進行設計,以實現精確的控制和準確的結果。光刻過程需要在主軸上旋轉塗有光致抗蝕劑材料的晶片,並將抗蝕劑層以定義的圖樣形狀暴露在光源中。水星OC的特點是對光源的精確控制,通過其獨特的光學和軟件實現。這樣就可以在前所未有的精度和穩定性水平上形成小於1微米的特征大小。FSI Mercury OC的另一個關鍵特征是它的高分辨率成像,利用低光強度和高孔徑視野來實現。這樣可以對許多不同級別的陣列幾何和結構進行成像,包括小至0.2微米的特征。此外,它的光學器件設計用於最大程度地減少線條放置誤差、陣列移位和重叠形式的陣列失真。水星OC是一個獨立的光刻系統,用戶可以根據需要調整參數。這包括曝光時間、激光功率、聚焦位置和光束傾斜,可以為任何幾何的陣列進行修改。FSI Mercury OC是對矽和其他材料進行高精度和可靠性制圖的最佳選擇。它提供了高度的控制,允許用戶準確實現所需的功能。它的高分辨率成像、低光強度和納米圖案功能使用戶能夠產生錯綜復雜的圖樣和結構,從而產生尖端的高端半導體技術。
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