二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #9220294 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury OC是一種光刻設備，設計用於在多種基板上進行先進的光刻工藝。光致抗蝕劑是一種在光照下發生化學變化的材料。該技術被用於半導體器件制造、印刷、醫療器件制造等多個行業。FSI水星OC系統是FSI金星深紫外光刻平臺的延伸。它是專為滿足亞四分之一微米IC生產中光刻工藝的獨特需求而開發的。該單元結合了高效的曝光膠片規劃技術、先進的運動控制和超高分辨率（低至1 µm）的圖樣設計功能。該機器配備了先進、精密的晶片卡盤和可靠的光源，能夠在大面積上提供非常集中和一致的曝光。這樣可以確保曝光過程準確無誤,並具有最小的誤差和偽影。TEL Mercury OC工具還采用了高度敏感和可靠的光掩模光刻資產，以便將復雜的圖樣精確地轉移到抗蝕劑上。該模型能夠精確操縱各種抗蝕劑材料，如正負抗蝕劑、有機無機抗蝕劑以及幹濕蝕刻抗蝕劑。它還可以容納各種厚度和照明,提供精確、微調的曝光。汞OC設備還提供了關鍵維度方面的靈活性，從而實現了廣泛的關鍵維度。這種能力對於精確的圖樣設計至關重要,因為提供的曝光深度和管理關鍵尺寸的能力對於高性能光刻工藝至關重要。該技術還提供了優越的過程控制，通過使用先進的過程監控機制，結合精確的微觀定位系統來實現。這樣可以確保曝光過程平穩運行,並在高速和高屈服的情況下實現所需的精確模式。最後，該機組還配備了先進的自動化技術，允許可靠、低成本和高批量的生產運行。此外,它還配備了直觀的用戶界面,使其易於使用,並且需要最少的培訓和設置時間。總之，TOKYO ELECTRON MERCURY OC光刻機是一種高度先進的光刻工具，可實現精確、高產、低成本的高速生產。它提供卓越的工藝控制、關鍵尺寸的靈活性和精確的曝光,使其成為幾乎所有行業中光刻的寶貴工具。