二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9073573 待售

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ID: 9073573
晶圓大小: 6" - 8"
Spray processor (6) Cassettes for 6" wafers (4) Cassettes for 8" wafers PLC Controller 15" Touchscreen LCD display PFA High purity pneumatic operated valve No metal contamination In line ultrapure DI water heater Canister console Recirculation tank for HF / BOE Chamber temperature measurement (52) Modernized helios: Communication compatible with FSI Mercury over RS232 RJ45 Ethernet communication Modern and reliable SSR relay Touch screen display operation Intuitive user interface Auto adaptive temperature regulation High reliability Events archive Modernized safety features Remote control and supervision Process availability: B Clean C Clean RCA Clean SC1 Clean SC2 Clean Oxide etch Ozone clean Piranha clean Rise and dry Canister configuration: 1st canister console: H2SO4, HCl, DHF canisters 2nd canister console: H2O2, NH4OH canisters Flow meter configuration: H2SO4 - 200 - 2000 sccm HCl - 30 - 400 sccm DHF - 200 - 2000 sccm H2O2 - 30 - 400 sccm NH4OH - 30 - 400 sccm Dual exhaust configuration: (2) Drain PFA 6" / (6) Position turntable included Control system with HMI Valves and PFA lines in process console Not included: Filter cartridges Controller with HMI interface.
FSI MERCURY是一種光致抗蝕劑設備,設計用於對微電子工業中常用的矽晶片上的微觀和納米級特征進行精確蝕刻。光致抗蝕劑技術包括將一種稱為光致抗蝕劑的感光膜暴露在精確的光源圖樣上,以便在光刻制造過程中在半導體基板上創建精確的圖樣或特征。MERCURY是FSI產品線的補充,旨在使生產比其他FSI產品更先進和復雜的特性。該系統采用直接激光圖樣,其聚焦尺寸小於10 μ m,以便創建精度高達0.1 μ m的圖樣,在蝕刻復雜的微觀和納米級圖樣時提供卓越的分辨率。該裝置有一個獨特的化學機器,與其他光刻產品相比,能夠更快地蝕刻時間-減少與電子束陣列相關的時間和成本。這種化學工具結合了較高的分辨率,也意味著在不出現邊緣過沖的情況下可以產生狹窄的線條,這意味著制圖過程極其精確,缺陷最小。FSI MERCURY資產還具有低吸水性和優良的保質期,暴露範圍廣泛。該模型還與包括臭氧和等離子體處理在內的多個互補過程配合使用,這有助於優化抗蝕劑和TKW(熱酮水溶性)層之間的選擇性。設備也非常可靠,記錄的停機時間最短,這意味著生產過程一致且高效。總體而言,MERCURY是一種先進的光致抗蝕劑產品,能夠以更高的精度和分辨率對微觀和納米級圖樣進行蝕刻。由於系統先進的化工單元,蝕刻工藝縮短,產品具有優良的存儲性能和最小的停機時間,非常適合微電子行業使用。
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