二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9278150 待售

ID: 9278150
晶圓大小: 8"
Spray cleaning system, 8" 486 CPU (4) PFA Cassette turntables (5) Chemicals: HCl, HF, H2SO4, H2O2, NH4OH, HNO3 (2) Chemical consoles DI MIX DI Heater Dual exhaust Double booster pump.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON MERCURY是一種世界領先的光致抗蝕劑設備,用於制造集成電路(IC)。利用先進的電子束光刻技術,為廣泛的電子應用創造了20納米以下的光刻層特征。該系統采用集成的光耦合掃描儀和以KHz掃描頻率工作的單束光源,提供高清、可重復、可靠的光刻性能。該單元以電子束為基礎,並抵抗FSI開發的技術,使其高度可靠和先進。先進的機器設計是基於一個強大的體系結構,具有簡化的刀具控制。光刻過程圍繞功能源和圖像資產進行。該源模型具有精確的電子束生成、強度和劑量控制以及機械和編程對準功能,以提供像素完美的光刻。此外,該設備可進行高精度的掩模邊緣對準、光束定心和光束成形,無需人工幹預。FSI Mercury系統配備了自動化和可編程的工藝參數,允許在多個晶片和批次上實現一致性和可重復結果。通過使用質量控制(QC)外圍設備來監控過程穩定性,如焦點調整、光束電流、蝕刻深度等,增強了穩健的單元體系結構。此外,該機還利用各種標準工藝模塊和高端光刻工具,實現了復雜芯片結構的更大可定制性。此外,對於關鍵特征尺寸,該工具能夠滿足嚴格的精度要求,其精度要好於1nm。它包含一個大氣掃描儀,可以生成並對齊0.05度傾斜角,用於均勻分布的光輪廓和高質量的圖像。該資產還可以利用集成的溫度和濕度控制器來提高穩定性,並隨著時間的推移減少叠加誤差。TEL Mercury模型也符合行業標準,並得到從單層抗生產到多層金屬化層等廣泛工藝模塊的支持。此外,設備可以與一系列自動化解決方案集成,並集成在線過程監控和可追蹤性設備,例如基於攝像頭的缺陷檢查系統、審查系統以及自動化產品裝卸系統。TOKYO ELECTRON MERCURY系統是高精度、高分辨率的IC製造的理想選擇,需要穩定、準確且可重複的特徵尺寸。由於其先進的功能,它被世界各地的多個設備制造商和研究機構所采用。
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